品牌：JSYA（吉圣雅） JSYAPG-TM50 是一款面向高去除率精密抛光的大粒径高浓度硅溶胶抛光液，采用 22 nm 单分散球形无定形二氧化硅颗粒，固含量高达 50%，兼顾较快材料去除与稳定的镜面加工能力，适合光学玻璃、陶瓷、蓝宝石、硅片及硬质材料的中粗抛与精抛衔接工艺。

一、技术指标

项目	技术参数
产品型号	JSYAPG-TM50
产品类型	碱性阴离子型纳米硅溶胶抛光液
外观	半透明至乳白色胶体液体
SiO₂ 固含量	50±1 wt%
平均粒径（DLS）	22 nm
粒径分布	窄分布，严控大颗粒与团聚体
pH（25℃）	9.0～10.5
Na₂O	≤0.30%
密度（25℃）	≈1.37 g/cm³
粘度（25℃）	一般 ≤15 mPa・s
介质	去离子水
金属杂质	ppm 级
保质期	6 个月（密封避光，5–35℃储存）

二、产品特点

1. 22nm 大粒径设计 相比 12nm 产品，22nm 颗粒具有更强的机械磨削作用，适合提高材料去除速率，适合中粗抛、精抛衔接及对效率敏感的工序。

2. 50% 超高固含 单位体积内有效 SiO₂ 颗粒更多，可减少稀释后补料频率，提升批量加工效率，并降低运输与包装成本。

3. 窄粒径分布 粒径均一性好，抛光表面更均匀，可减少异常划伤风险，适合精密光学、陶瓷及半导体相关材料加工。

4. 优异胶体稳定性 碱性阴离子静电稳定体系，常温储存与循环使用过程中抗沉降、抗分层能力强，适合长时间连续运行。

5. 可稀释、可复配 可根据工艺要求用去离子水稀释，也可与碱剂、螯合剂、表面活性剂等配合使用，适配不同抛光设备与材料。

6. 水基环保 无有机溶剂，低气味，操作环境友好，废液处理相对简单。

三、典型应用场景

高去除率粗抛、硅片抛光、玻璃大面抛光

上一个 : 高浓度硅溶胶抛光液（12nm40%）JSYAPG-HS40 下一个 : 铵型硅溶胶抛光液（40%）JSYAPG-AS40

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