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高浓度硅溶胶抛光液（12nm40%）JSYAPG-HS40
应用场景
高固含CMP抛光、氧化层平坦化、高去除率抛光
高浓度硅溶胶抛光液（12nm/40%）JSYAPG-HS40
品牌：JSYA（吉圣雅） JSYAPG-HS40 是 JSYAPG-HS30 的高浓度升级款，同样采用 12 nm 单分散球形无定形纳米二氧化硅颗粒，但固含量提升至 40%，更适合对 材料去除速率、批量加工效率和运输经济性 有更高要求的精密抛光场景。
一、技术指标
项目 | 技术参数 |
产品型号 | JSYAPG-HS40 |
产品类型 | 碱性阴离子型纳米硅溶胶抛光液 |
外观 | 半透明至乳白色胶体液体 |
SiO₂ 固含量 | 40±1 wt% |
平均粒径（DLS） | 12 nm |
粒径分布 | 窄分布，严控大颗粒与团聚体 |
pH（25℃） | 9.0～10.5 |
Na₂O | ≤0.30% |
密度（25℃） | ≈1.28 g/cm³ |
粘度（25℃） | 一般 ≤10 mPa・s（随温度与配方波动） |
介质 | 去离子水 |
金属杂质 | ppm 级 |
保质期 | 6 个月（密封避光，5–35℃储存） |
二、产品特点
1. 12 nm 超细颗粒，兼顾镜面质量 球形无定形 SiO₂颗粒粒径小、分布窄，抛光作用柔和，可获得低粗糙度、低亚表面损伤的镜面效果。
2. 40% 高固含，提升加工效率 相比 30% 常规款，单位体积有效 SiO₂含量更高，在合适工艺条件下可提高材料去除速率，缩短抛光时间。
3. 高浓度但仍保持良好稳定性 采用碱性阴离子静电稳定体系，常温储存与循环使用过程中抗沉降、抗分层能力优异，适合批量精抛。
4. 低粘度流动性优势 在高固含产品中保持较低粘度，有利于浆料输送、循环过滤和抛光垫孔隙渗透，减少堵塞风险。
5. 可稀释、可复配 可根据工艺要求用去离子水稀释至所需浓度，也可配合碱剂、螯合剂、表面活性剂等复配使用。
6. 水基环保、使用安全 无有机溶剂，低气味，操作环境更友好，废液处理相对简单。
三、典型应用场景
高固含CMP抛光、氧化层平坦化、高去除率抛光
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