品牌：JSYA（吉圣雅） JSYAPGHS30 为碱性阴离子型无定形纳米二氧化硅水基抛光液，对标 Ludox HS30 粒度体系，专门面向精密研磨、CMP、光学 / 陶瓷精抛场景；单分散球形颗粒、粒径窄分布、低金属杂质、胶体长期稳定，兼顾材料去除速率与超低表面损伤，是通用性标准抛光硅溶胶浆料。

一、技术指标

项目	技术参数
产品型号	JSYAPGHS30
外观	半透明白色乳状液体
SiO₂固含量	30±1 wt%
平均粒径 (DLS)	12 nm
粒径分布	窄分布，无大颗粒 / 团聚体，严格过滤
pH（25℃）	9.0～10.0（碱性阴离子体系）
Na₂O	≤0.25%
密度（25℃）	≈1.20 g/cm³
粘度（25℃）	≤6 mPa·s
介质	去离子水
金属杂质 (Fe、Al 等)	ppm 级
保质期	6 个月（密封避光 5–35℃储存）

粒子为无定形非晶 SiO₂，无晶体二氧化硅，无硬划痕风险；负电胶体静电稳定，不易沉降。

二、产品特点

1. 12nm 超细球形颗粒：切削作用柔和，抛光后粗糙度 Ra 极低，适合***终精抛、镜面抛光，不容易产生亚表面损伤。

2. 窄粒径分布 + 多级过滤：严控大颗粒，大幅降低划伤不良率，适配光学与半导体前道抛光要求。

3. 30% 高固含：运输成本更低，现场可按工艺用 DI 水稀释至 5%–20% 使用，配方窗口宽。

4. 优异胶体稳定性：常温长期储存不易分层沉降；与常见碱性添加剂（KOH、有机碱、表面活性剂、螯合剂）兼容性好，便于复配定制抛光液。

5. 低粘度、流动性好：抛光机输送、循环过滤顺畅，不易堵管路与抛光垫孔隙。

6. 水基环保：无有机溶剂，低气味，废液易处理。

三、典型应用场景

通用型精密抛光、玻璃抛光、石材抛光、CMP初级抛光

上一个 : 低钠型硅溶胶抛光液（12nm）JSYAPG-LS 下一个 : 高浓度硅溶胶抛光液（12nm40%）JSYAPG-HS40

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