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应用场景
半导体CMP、低钠污染要求的晶圆抛光、电子级抛光
铵型硅溶胶抛光液(40%)JSYAPG-AS40
品牌:JSYA(吉圣雅) JSYAPG-AS40 是一款以铵离子为稳定体系的高浓度硅溶胶抛光液,适合对金属杂质、碱金属离子和表面洁净度要求较高的精密抛光场景。产品兼具 40% 高固含、良好胶体稳定性、较低钠含量风险,可用于光学玻璃、石英、陶瓷、硅片及电子材料精抛。
项目 | 技术参数 |
产品型号 | JSYAPG-AS40 |
产品类型 | 铵型碱性纳米硅溶胶抛光液 |
外观 | 半透明至乳白色胶体液体 |
SiO₂ 固含量 | 40±1 wt% |
平均粒径 | 典型范围 10–30 nm |
粒径分布 | 窄分布,严控大颗粒与团聚体 |
pH(25℃) | 9.0~10.5 |
Na₂O | 低钠控制,具体以 COA 为准 |
密度(25℃) | ≈1.28 g/cm³ |
粘度(25℃) | 一般 ≤10 mPa・s |
介质 | 去离子水 |
离子类型 | 铵型稳定体系 |
金属杂质 | ppm 级 |
保质期 | 6 个月(密封避光,5–35℃储存) |
1. 铵型稳定体系 以铵离子作为主要稳定离子,适合关注钠含量或后续清洗残留的精密加工场合。
2. 40% 高固含 有效 SiO₂ 含量高,有利于提升材料去除速率,同时降低运输、包装和补料成本。
3. 窄粒径分布 颗粒均一性好,抛光表面质量更稳定,可减少异常划伤和雾度。
4. 良好胶体稳定性 常温储存与循环使用过程中抗沉降、抗分层能力强,适合连续批量生产。
5. 可稀释、可复配 可用去离子水稀释至工艺所需浓度,也可与合适的铵基碱剂、螯合剂、表面活性剂复配。
6. 水基环保 无有机溶剂,低气味,操作环境友好,废液处理相对简单。
半导体CMP、低钠污染要求的晶圆抛光、电子级抛光

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