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铵型硅溶胶抛光液(40%)JSYAPG-AS40

应用场景
半导体CMP、低钠污染要求的晶圆抛光、电子级抛光

铵型硅溶胶抛光液(40%)JSYAPG-AS40

品牌:JSYA(吉圣雅) JSYAPG-AS40 是一款以铵离子为稳定体系的高浓度硅溶胶抛光液,适合对金属杂质、碱金属离子和表面洁净度要求较高的精密抛光场景。产品兼具 40% 高固含、良好胶体稳定性、较低钠含量风险,可用于光学玻璃、石英、陶瓷、硅片及电子材料精抛。

一、技术指标

项目

技术参数

产品型号

JSYAPG-AS40

产品类型

铵型碱性纳米硅溶胶抛光液

外观

半透明至乳白色胶体液体

SiO₂ 固含量

40±1 wt%

平均粒径

典型范围 10–30 nm

粒径分布

窄分布,严控大颗粒与团聚体

pH(25℃)

9.0~10.5

Na₂O

低钠控制,具体以 COA 为准

密度(25℃)

≈1.28 g/cm³

粘度(25℃)

一般 ≤10 mPa・s

介质

去离子水

离子类型

铵型稳定体系

金属杂质

ppm 级

保质期

6 个月(密封避光,5–35℃储存)

二、产品特点

1. 铵型稳定体系 以铵离子作为主要稳定离子,适合关注钠含量或后续清洗残留的精密加工场合。

2. 40% 高固含 有效 SiO₂ 含量高,有利于提升材料去除速率,同时降低运输、包装和补料成本。

3. 窄粒径分布 颗粒均一性好,抛光表面质量更稳定,可减少异常划伤和雾度。

4. 良好胶体稳定性 常温储存与循环使用过程中抗沉降、抗分层能力强,适合连续批量生产。

5. 可稀释、可复配 可用去离子水稀释至工艺所需浓度,也可与合适的铵基碱剂、螯合剂、表面活性剂复配。

6. 水基环保 无有机溶剂,低气味,操作环境友好,废液处理相对简单。

三、典型应用场景

半导体CMP、低钠污染要求的晶圆抛光、电子级抛光


铵型硅溶胶抛光液(40%)JSYAPG-AS40
应用场景
半导体CMP、低钠污染要求的晶圆抛光、电子级抛光
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