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纳米氧化铈抛光粉JSYACPO-CENANO
应用场景
CPO晶圆/玻璃光学端面抛光、光学元件精抛
纳米氧化铈抛光粉JSYACPO-CENANO
品牌：JSYA（吉圣雅） JSYACPO-CENANO 为纳米级氧化铈抛光微粉，萤石型晶型，依靠化学机械协同抛光机制，兼顾材料去除速率与超低表面损伤，粒度分布窄、大颗粒控制严格，适合光学元件、石英玻璃、半导体氧化膜、精密晶体的超精抛光，可直接配制高端 CMP 抛光液。
一、技术指标
项目 | 技术参数 |
产品型号 | JSYACPO-CENANO |
产品名称 | 纳米氧化铈抛光粉 |
化学成分 | CeO₂ |
外观 | 淡黄色纳米粉体 |
特性 | 纳米晶粒、晶型完整、粒度分布窄、低大颗粒、化学活性高、抛光划痕少 |
保质期 | 24 个月（密封干燥阴凉保存） |
二、产品特点
1. 纳米晶粒，晶型完整 可控合成纳米氧化铈晶体，萤石结构，Ce³⁺/Ce⁴⁺比例可控，对硅酸盐基材可形成 Ce-O-Si 化学键，实现化学 + 机械协同抛光。
2. 粒度分布窄，严控粗大颗粒 剔除超大颗粒杂质，抛光过程划痕缺陷少，可获得原子级超光滑表面，满足高端光学、半导体平坦化要求。
3. 抛光效率与表面质量均衡 相比二氧化硅磨料，对玻璃 / 氧化硅去除速率更高；相比粗氧化铈粉， subsurface 亚表面损伤更低，适合终抛工序。
4. 分散性优异，适配水性体系 可进行表面改性，在水中易分散，悬浮稳定性好，不易沉降团聚，配制抛光液简单。
5. 杂质可控，批次稳定性高 重金属、磁性杂质严格管控，批次一致性好，适配光学镀膜前抛光、半导体 CMP 等高可靠性场景。
三、典型应用场景
CPO晶圆/玻璃光学端面抛光、光学元件精抛
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