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应用场景
CMP抛光液磨料、光学玻璃/石英/陶瓷精密抛光
亲水型气相二氧化硅CMP磨料JSYAPG-L90
JSYAPG-L90 为亲水型气相法纳米二氧化硅粉体,火焰水解工艺制备,颗粒表面富含活性硅羟基,BET 比表面积 90m²/g,属于半导体 CMP 专用高纯磨料原料。可直接分散于水相体系,用于配制氧化层、硅片、氮化硅等 CMP 抛光浆料;兼具研磨切削 + 流变调控双重功能,对标进口 L90 气相二氧化硅,低金属杂质,适配高端晶圆平坦化工艺。
项目 | 参数 |
产品型号 | JSYAPG-L90 |
外观 | 白色超细蓬松粉末 |
SiO₂含量 | ≥99.9% |
BET 比表面积 | 90±15 m²/g |
一次原生粒径 | 7~16 nm |
表面特性 | 亲水型,高硅羟基含量 |
金属总杂质 | <30 ppm |
灼烧减量 | ≤2.0% |
pH(4% 水悬浮液) | 3.6~4.5 |
1. 亲水易分散:表面大量 Si-OH 活性基团,在水中快速润湿分散,无需额外强分散剂,浆料配制简单,减少团聚大颗粒产生。
2. 超高纯度低污染:气相合成工艺,重金属离子极低,满足半导体晶圆加工对金属污染管控要求,降低晶圆表面缺陷、颗粒残留。
3. 可控研磨效率:纳米原生颗粒,适度硬度,在抛光中实现材料去除与表面粗糙度平衡,兼顾抛光速率与低划痕。
4. 流变改性能力:添加到抛光液中可构建三维网络,提供触变、抗沉降效果,稳定浆料,减少管路输送沉降分层问题,兼顾磨料与流变助剂双重作用。
5. 化学稳定性佳:惰性二氧化硅基体,酸碱体系适配性好,可搭配氧化剂、螯合剂、pH 调节剂复配。
CMP抛光液磨料、光学玻璃/石英/陶瓷精密抛光

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